化合物半導(dǎo)體應(yīng)在LED或電子器件中廣泛用于節(jié)能，其功能與其層狀結(jié)構(gòu)有關(guān)。與多層蛋糕不同的是，我們不能夠?qū)A進(jìn)行切片以查看其內(nèi)部。這種情況下，您可以求助于無損的薄膜測量技術(shù)，例如X射線衍射法（XRD）。

對于半導(dǎo)體和單晶晶圓，無論是用于生長研究還是芯片設(shè)計，使用高分辨X射線衍射對結(jié)構(gòu)層質(zhì)量、厚度、應(yīng)力和合金組分進(jìn)行測量的過程已成為電子和光電子多層半導(dǎo)體芯片的研發(fā)核心所在。

研發(fā)基地的測量工具基礎(chǔ)設(shè)施不同于制造基地

通常，化合物半導(dǎo)體公司要發(fā)展為成熟的公司，需要經(jīng)歷一個從實驗室研究逐步發(fā)展到晶圓廠生產(chǎn)的發(fā)展過程。而晶圓廠和大多數(shù)研究實驗室的顯著差異在于設(shè)備的性能標(biāo)準(zhǔn)不同，這是由于伴隨質(zhì)量要求的提升而必須達(dá)到的標(biāo)準(zhǔn)發(fā)生變化所致。另一個與實驗室研發(fā)的不同點(diǎn)是：生產(chǎn)企業(yè)為了增加利潤，減少人工參與需求和進(jìn)一步降低污染，將更多地采用自動化生產(chǎn)。

如何實現(xiàn)從實驗室到晶圓廠的方法轉(zhuǎn)移？

馬爾文帕納科了解化合物半導(dǎo)體外延片和器件制造商對XRD解決方案的需求。無論客戶處于從開發(fā)到生產(chǎn)的哪個階段，馬爾文帕納科均可為其提供支持系統(tǒng)。

MRD XL高分辨衍射儀采用*模塊化設(shè)計，在研發(fā)初期，您可以使用儀器核心檢測部分用于研發(fā)，然后在投產(chǎn)后增購晶圓片生產(chǎn)專用附件和軟件。該方法可避免因“固定”解決方案耗巨額初期費(fèi)用。

馬爾文帕納科憑借多年經(jīng)驗，通過制造具有前瞻性和靈活性的檢測設(shè)備，可始終滿足客戶和市場發(fā)展需求

擁有能跟上產(chǎn)品及制造商發(fā)展步伐的測量設(shè)備可提高企業(yè)利潤！

這不但是對于在一臺機(jī)器上生產(chǎn)多個不同產(chǎn)品線產(chǎn)品的小型晶圓廠，且對于測量復(fù)雜性日益增大的大型晶圓廠同樣適用。MRD XL可靈活用于從研究到中試規(guī)模生產(chǎn)，最后再到大規(guī)模生產(chǎn)，并在不斷進(jìn)化的過程中，逐步提高M(jìn)RD XL的測量能力，使企業(yè)考慮成本支出、預(yù)算和時限，有了更大的靈活性。

手動將晶圓片放入測量設(shè)備需要大量人力，且可重復(fù)性低于裝有預(yù)校準(zhǔn)裝置的機(jī)器人

自動化顯然是實現(xiàn)所需潔凈室環(huán)境的重要因素。隨著機(jī)器人能力不斷進(jìn)步，也許會出現(xiàn)無需人為干預(yù)的“熄燈”工廠，屆時相關(guān)SEMI標(biāo)準(zhǔn)的重要性肯定會有所提升。我們需要遵循更多的要求，例如SEMI E5（SECS-Ⅱ）和E30（GEM）標(biāo)準(zhǔn)，其為設(shè)備和主機(jī)或通信公司之間進(jìn)行通信所適用的關(guān)鍵協(xié)議。

MRD XL是由一個包含測量室的基本模塊和一個具有自動化功能的前端模塊組成，從而將實驗室測量功能（例如在晶圓片表面進(jìn)行的In-plane測量）整合到規(guī)模生產(chǎn)方法中去

在快速發(fā)展的半導(dǎo)體行業(yè)中，決策必須著眼于未來。對于選擇與馬爾文帕納科合作的芯片制造商和開發(fā)人員而言，這不是一個值得擔(dān)心的問題，因為它永遠(yuǎn)不必?fù)?dān)憂投資從實驗室到晶圓廠的設(shè)備很快會被新型號所取代。馬爾文帕納科的解決方案以數(shù)十年的經(jīng)驗和豐富的專業(yè)知識為基礎(chǔ)，可輕松運(yùn)行超過十年。

化合物半導(dǎo)體已取得了一定的發(fā)展，例如出現(xiàn)了“熄燈”工廠、向更大晶圓尺寸的轉(zhuǎn)型以及化合物半導(dǎo)體中超晶格復(fù)雜性的提升，它還將有更加難以預(yù)料且與眾不同的發(fā)展。馬爾文帕納科會不斷進(jìn)行軟硬件改進(jìn)和升級，以確保我們的客戶及解決方案可隨時應(yīng)對和戰(zhàn)勝未來的挑戰(zhàn)。

X'Pert³ MRD/ XL 高分辨X射線衍射儀